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HOT熱門關鍵詞 恒溫電熱板 專注先進材料的開發和應用系統解決方案
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HTL-300EX實驗室加熱板廣泛應用于農業、土壤、環保、食品、科研院所、大專院校等實驗、化驗室。可用于樣品加熱、烘烤、消化、趕酸等工作。
HTL-400EX恒溫加熱板廣泛應用于農業、土壤、環保、食品、科研院所、大專院校等實驗、化驗室。可用于樣品加熱、烘烤、消化、趕酸等工作。
NanoHeat陶瓷加熱板NanoHeat 是世界一級的熱能技術, 品質超卓, 先后榮獲亞洲創意獎！2009年香港工業獎科技成就獎, 以及 2008年的科技成就優異證書。技術超過35項！產品設計40多...
紅外線加熱板廣泛應用于農業、土壤、環保、食品、科研院所、大專院校等實驗、化驗室。可用于樣品加熱、烘烤、消化、趕酸等工作。
多聯紅外磁力攪拌器,多聯磁力攪拌器加熱模塊采用納米熱能技術、加熱快、受熱面積大、受熱均勻；適合于大量樣品篩選、培養、樣品濃縮、溶劑蒸發等實驗。
新型磁力攪拌器HMS-901B磁力攪拌器與普通磁力攪拌器相比，新型磁力攪拌器采用德國肖特微晶陶瓷板面，耐酸，耐堿，耐腐蝕，清潔容易。-攪拌性能穩定、采用直流電機，噪音小，壽命長，低速平穩，高速強勁；大...
多工位磁力攪拌器外型設計新穎美觀、操作簡便、攪拌轉速連續可調、儀器運行平穩安靜。
恒溫磁力攪拌器HMS-901A產品說明：-恒溫磁力攪拌器采用NanoHeat世界一級熱能技術驅動，無機械發熱組件，可干燒，無電磁場干擾和危害，-超快速加熱技術可使溫度以每秒5°C的速度增加，...
磁力攪拌器廠家的數顯恒溫磁力攪拌器采用NanoHeat世界一級熱能技術驅動，無機械發熱組件，可干燒，無電磁場干擾和危害，-超快速加熱技術可使溫度以每秒5°C的速度增加，板表面溫度均勻，溫度差...
磁力攪拌電熱套、新型微晶納米電熱套 HMS-901H不同容器: 圓底、平底、不規則底均可加熱；不同容量：1ml~20000ml一臺全部解決!! 過溫保護功能、超溫報警功能，計時功能，已獲得CE認證證書...
簡要描述：實驗室微晶納米加熱板NanoHeat 是世界一級的熱能技術, 品質超卓, 先后榮獲亞洲創意獎！2009年香港工業獎科技成就獎, 以及2008年的科技成就優異證書。技術zhaunli超過35項...
加熱磁力攪拌器采用NanoHeat世界一級熱能技術驅動，無機械發熱組件，可干燒，無電磁場干擾和危害，-超快速加熱技術可使溫度以每秒5°C的速度增加，板表面溫度均勻，溫度差為1-3°...
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2004
公司成立減少原料浪費，提升產品質量的一致性
擴大生產產能，提高生產效率提高行業競爭力
節約生產消耗，增強生產能力降低投資成本
改善安全條件，減少人員流動解決招工難題
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12-29
在現代實驗室設備中，多點磁力加熱攪拌器因其高效、便捷以及能夠有效控制反應條件而被廣泛應用。然而，隨著實驗操作的復雜性和高溫高壓環境的增加，設備的安全性顯得尤為重要。為了保障實驗室人員的安全和實驗結果的準確性，多點磁力加熱攪拌器配備了多種安全保護功能，以防止潛在的危險和事故發生。1.溫度過載保護溫度過載保護是基本但至關重要的安全功能。當設備的溫度超過設定范圍時，過載保護系統會自動切斷電源或發出警報，從而避免因過熱引發的事故。這一功能不僅能保護設備本身，還能防止樣品因高溫而發生意...
11-18
光刻烤膠機作為微電子制造領域的核心設備之一，其工作原理基于熱力學和精密控制技術。主要通過準確控制溫度和時間參數，實現對涂覆在硅片表面的光刻膠進行熱處理。具體而言，其工作過程分為三個關鍵階段：預烘烤、后烘烤和硬烘烤。在預烘烤階段，機器通過加熱板或紅外輻射源將硅片加熱至適當溫度(通常為90-100℃)，使光刻膠中的溶劑揮發，形成均勻的薄膜；后烘烤則在曝光后進行，通過升溫(約100-120℃)促進光刻膠的化學反應，增強其與硅片的黏附性；硬烘烤階段溫度更高(可達150℃以上)，進一步...
10-24
實驗室加熱板作為科研實驗中常用的基礎設備之一，扮演著至關重要的角色。它以其獨特的工作原理和諸多優點，在化學、生物、醫藥等多個領域的實驗過程中發揮著不可替代的作用。核心在于電能轉化為熱能的過程。當接通電源后，內置的電熱元件(通常為電阻絲或PTC陶瓷發熱體)開始工作，電流通過這些元件時會產生焦耳效應，即電能轉換為熱能。這種熱量隨后被均勻地傳遞到面板上，使得整個表面達到預設的溫度。為了實現準確控溫，大多數現代加熱板都配備了溫度傳感器和控制系統。傳感器實時監測面板的實際溫度，并將信息...
9-3
第25屆深圳國際珠寶展于2025年09月11～15日位于深圳會展中心盛大開幕！歡迎大家掃碼免費辦理入場參觀博大精科展位號：9H61，歡迎蒞臨參觀關于珠寶展深圳國際珠寶展覽會被譽為中國內地具有較大規模、較高檔次、較多買家群體、較具影響力、國際化進程較高的的專業珠寶交易展覽會。深圳珠寶首飾是深圳市六大優勢傳統產業之一，產品占全國70%以上的市場份額，匯聚各類珠寶企業約2300家，制造加工企業約700家，年加工總值超過800億元人民幣（約125億美元），從業人員約20萬，在國內處于...
8-26
實驗室加熱板在化學實驗中，廣泛應用于各種化學反應、溶液蒸發、樣品干燥等過程。例如，在有機合成實驗中，需要將反應物加熱到一定溫度以促進反應的進行。加熱板可以為反應提供穩定的溫度環境，確保反應能夠按照預期的速率和方向進行。在溶液蒸發實驗中，加熱板可以快速將溶液中的溶劑蒸發掉，得到純凈的溶質。此外，加熱板還可以用于化學樣品的干燥處理，去除樣品中的水分，以便后續的分析和檢測。生物實驗中，加熱板常用于細胞培養、酶反應、DNA提取等實驗。細胞培養需要在適宜的溫度條件下進行，加熱板可以為細...
7-21
多點磁力攪拌器主要由磁力攪拌器主機、攪拌子和多個攪拌位點組成。其核心工作原理基于磁場的相互作用，在主機內部，有一個旋轉的磁場發生裝置，通常是由電機驅動的永磁體或電磁鐵構成。當電機啟動時，永磁體或電磁鐵開始旋轉，產生一個旋轉的磁場。攪拌子一般是由能夠被磁鐵吸引的材料(如鐵、鈷、鎳及其合金等)制成，并且通常在其外部包裹一層具有良好化學穩定性和耐磨性的材料，如聚四氟乙烯(PTFE)，以適應不同的化學環境。當將裝有液體的容器放置在多點磁力攪拌器的攪拌位點上時，攪拌子會受到旋轉磁場的作...
12-28
實驗室加熱板是實驗室中常用的加熱設備，主要用于溶液蒸發、濃縮、干燥、樣品預處理等操作。它通過電熱元件產生熱量，為實驗提供穩定、可控的熱源。實驗室加熱板的特點：控溫準確：多采用PID智能程序控制，配備高精度溫度傳感器。加熱均勻：加熱臺面材質通常具有良好的導熱性，如玻璃陶瓷，能使熱量均勻分布，確保樣品受熱一致，減少實驗誤差。安全性能高：具備多種安全保護功能，如過熱警示，當加熱臺面表面溫度超過50℃時，警示燈變紅，提醒操作人員注意安全，防止燙傷。便于清潔：玻璃陶瓷等材質的臺面表面光...
12-25
光刻技術在現代微電子制造中無處不在，作為半導體生產的關鍵工序之一，光刻烤膠機的應用至關重要。面對市場競爭日益激烈的形勢，提升光刻烤膠機的生產效率是每個電子制造商所追求的目標。本文將探討提升光刻烤膠機生產效率的方法，從設備優化、工藝改進、材料選擇到自動化升級等多個方面進行深入分析。1、設備優化設備性能直接影響生產效率。通過合理的設備維護與技術升級，可以顯著提高生產效率。1.定期維護與校準定期進行維護和校準，可以減少設備故障率。確保烘箱溫度精確、烘烤時間穩定，能夠有效提升膠膜的均...
10-23
在現代實驗室的加熱舞臺上，高鋁瓷電熱板憑借其良好的耐溫性、抗腐蝕性和均勻加熱能力，成為化學消解、樣品干燥、蒸發濃縮等高溫作業的可靠伙伴。它不僅是簡單的加熱工具，更是一套融合材料科學與電熱技術的精密系統。深入解析高鋁瓷電熱板各部件的功能特點，有助于我們更好地理解這臺設備的工作智慧。1、高鋁陶瓷面板作為核心表面，高鋁瓷（氧化鋁含量≥90%）面板是整機性能的基石。其特點在于高機械強度、優異的耐酸堿腐蝕性以及出色的熱穩定性，可長期承受600℃以上的高溫而不開裂或變形。光滑致密的表面易...
10-9
碳化硅電熱板的核心為碳化硅發熱元件，外覆耐高溫絕緣層，直接通電發熱，結構簡單卻對使用環境與操作規范要求較高。在長期使用中，常因超溫、腐蝕、機械沖擊等問題導致故障。掌握碳化硅電熱板常見問題的診斷與解決方法，是確保其安全、高效、長壽命運行的關鍵。問題一：不加熱或加熱緩慢電源檢查：確認插座通電，電源線無斷裂，插頭接觸良好；溫控器故障：檢查溫控儀表是否顯示異常，傳感器是否脫落或損壞，嘗試更換或校準；發熱元件老化：碳化硅棒長期使用后電阻增大，功率下降，表現為升溫慢，需更換發熱體；接線松...
9-23
在半導體制造、微電子封裝與材料研究中，晶圓加熱臺的溫度均勻性、穩定性和控溫精度直接影響薄膜沉積、光刻膠烘烤、合金退火等關鍵工藝的質量。長期高負荷運行下，加熱元件、溫控傳感器與臺面易受污染、老化，導致溫度漂移、熱點產生或工藝失敗?？茖W的維護晶圓加熱臺，是保障其精準、延長壽命的核心。一、日常清潔每次工藝結束后，必須立即清理加熱臺表面殘留物。使用高純無塵布蘸取電子級丙酮或異丙醇，輕柔擦拭臺面，去除光刻膠、金屬殘留或顆粒物。嚴禁使用硬質工具刮擦，以免劃傷精密溫控區域或破壞表面涂層。對...
9-1
多點磁力攪拌恒溫水浴是實驗室中用于同時加熱、控溫和攪拌多個樣品的常用設備，廣泛應用于生物、化學、醫藥、環境等領域的樣品溶解、反應、恒溫培養和酶解等實驗。其集加熱、溫控與多點磁力攪拌于一體，可顯著提高實驗效率和均一性。為確保多點磁力攪拌恒溫水浴安全運行、溫度精確控制及攪拌穩定，必須遵循規范的操作步驟。一、使用前準備設備檢查：確認槽內無雜物、無銹蝕，攪拌子完好無損。檢查電源線、插頭是否完好，接地可靠。加水：向槽內注入適量去離子水或蒸餾水，水位應高于加熱管且覆蓋樣品容器中液面高度，...
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